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書誌情報

書名

よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する  図解入門  

著者名 佐藤 淳一/著
出版者 秀和システム
出版年月 2010.5


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1 中央図書館0118299288549.8/サ/1階図書室49B一般図書一般貸出在庫  
2 9012911021549/サ/図書室7B一般図書一般貸出在庫  

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2010
549.8 549.8
半導体

書誌詳細

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タイトルコード 1008000287216
書誌種別 図書
書名 よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する  図解入門  
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ セイゾウ ソウチ ノ キホン ト シクミ 
著者名 佐藤 淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
出版者 秀和システム
出版年月 2010.5
ページ数 231p
大きさ 21cm
分類記号 549.8
分類記号 549.8
ISBN 4-7980-2610-7
内容紹介 洗浄・乾燥装置、イオン注入装置、熱処理装置など、半導体製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置までを、豊富なイラストを交え、現場に近い視点から解説する。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。ナノフロント研究所代表。半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。著書に「よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み」など。
件名 半導体
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置まで、豊富なイラストで手に取るようにわかる。
(他の紹介)目次 第1章 半導体製造装置を周辺から理解する
第2章 洗浄・乾燥装置
第3章 イオン注入装置
第4章 熱処理装置
第5章 リソグラフィー装置
第6章 エッチング装置
第7章 成膜装置
第8章 平坦化(CMP)装置
第9章 検査・測定・解析装置
第10章 後工程装置
(他の紹介)著者紹介 佐藤 淳一
 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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