蔵書情報
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書誌情報
書名 |
よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する 図解入門
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著者名 |
佐藤 淳一/著
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出版者 |
秀和システム
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出版年月 |
2010.5 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
配架場所 |
所蔵棚番号 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
付録 |
貸出
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1 |
中央図書館 | 0118299288 | 549.8/サ/ | 1階図書室 | 49B | 一般図書 | 一般貸出 | 在庫 | |
○ |
2 |
曙 | 9012911021 | 549/サ/ | 図書室 | 7B | 一般図書 | 一般貸出 | 在庫 | |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1008000287216 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み 製造装置の全体を俯瞰する 図解入門 |
書名ヨミ |
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ セイゾウ ソウチ ノ キホン ト シクミ |
著者名 |
佐藤 淳一/著
|
著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
出版者 |
秀和システム
|
出版年月 |
2010.5 |
ページ数 |
231p |
大きさ |
21cm |
分類記号 |
549.8
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分類記号 |
549.8
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ISBN |
4-7980-2610-7 |
内容紹介 |
洗浄・乾燥装置、イオン注入装置、熱処理装置など、半導体製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置までを、豊富なイラストを交え、現場に近い視点から解説する。 |
著者紹介 |
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。ナノフロント研究所代表。半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。著書に「よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み」など。 |
件名 |
半導体 |
言語区分 |
日本語 |
(他の紹介)内容紹介 |
製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置まで、豊富なイラストで手に取るようにわかる。 |
(他の紹介)目次 |
第1章 半導体製造装置を周辺から理解する 第2章 洗浄・乾燥装置 第3章 イオン注入装置 第4章 熱処理装置 第5章 リソグラフィー装置 第6章 エッチング装置 第7章 成膜装置 第8章 平坦化(CMP)装置 第9章 検査・測定・解析装置 第10章 後工程装置 |
(他の紹介)著者紹介 |
佐藤 淳一 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) |
内容細目表
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