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書誌情報

書名

よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み リソグラフィ技術の核心に迫る  図解入門  

著者名 佐藤 淳一/著
出版者 秀和システム
出版年月 2011.10


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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 中央図書館0118815075549.7/サ/1階図書室49B一般図書一般貸出在庫  
2 9012503539549/サ/図書室7B一般図書一般貸出在庫  

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2011
549.7 549.7
リソグラフィー 半導体

書誌詳細

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タイトルコード 1008000452873
書誌種別 図書
書名 よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み リソグラフィ技術の核心に迫る  図解入門  
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ リソグラフィ ノ キホン ト シクミ 
著者名 佐藤 淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
出版者 秀和システム
出版年月 2011.10
ページ数 271p
大きさ 21cm
分類記号 549.7
分類記号 549.7
ISBN 4-7980-3063-0
内容紹介 リソグラフィの基礎から発展までの技術を、プロセスフローを例にして豊富なイラストで分かりやすく解説した入門書。半導体製造現場に近い視点も取り入れ、歴史的経緯にも触れながら説明する。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。ナノフロント研究所代表。半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。著書に「半導体の基礎強化書」など。
件名 リソグラフィー、半導体
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
(他の紹介)目次 リソグラフィ技術とは引き算のプロセス?
光リソグラフィの発展
露光技術と装置
レジスト材料
レジスト塗布と現像
マスクとリソグラフィ技術
EUVリソグラフィ
リソグラフィの計測技術
多彩なパターニング技術
CMOSロジックプロセス(フロントエンド)
a−Si TFTプロセス
a−Si太陽電池プロセス
(他の紹介)著者紹介 佐藤 淳一
 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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