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所蔵数 4 在庫数 4 予約数 0

書誌情報

書名

虚国     

著者名 香納 諒一/著
出版者 小学館
出版年月 2010.3


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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 西岡5012704655913.6/カノ/図書室11一般図書一般貸出在庫  
2 9013143731913.6/カノ/図書室10A一般図書一般貸出在庫  
3 藤野6213019406913/カ/図書室一般図書一般貸出在庫  
4 西野7210498544913/カ/図書室一般図書一般貸出在庫  

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朝田 隆 村川 浩一
2021
549.8 549.8
半導体

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1008000256196
書誌種別 図書
書名 虚国     
書名ヨミ キョコク 
著者名 香納 諒一/著
著者名ヨミ カノウ リョウイチ
出版者 小学館
出版年月 2010.3
ページ数 381p
大きさ 20cm
分類記号 913.6
分類記号 913.6
ISBN 4-09-386274-5
内容紹介 死にかけた海辺の町にもちあがった空港建設計画。それはやがて、疲弊する共同体、軽んじられる命、欲得に溺れる人間を生み出す。公共事業は悪なのか。『文芸ポスト』連載「蒼ざめた眠り」を改題改稿、書下ろしを加え書籍化。
著者紹介 1963年横浜生まれ。早稲田大学卒。91年小説推理新人賞、99年「幻の女」で第52回日本推理作家協会賞を受賞。
言語区分 日本語
書評掲載紙 毎日新聞 日本経済新聞

(他の紹介)内容紹介 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。
(他の紹介)目次 半導体製造プロセス全体像
前工程の概要
洗浄・乾燥ウェットプロセス
イオン注入・熱処理プロセス
リソグラフィプロセス
エッチングプロセス
成膜プロセス
平坦化(CMP)プロセス
CMOSプロセスフロー
後工程プロセスの概要
後工程の動向
半導体プロセスの最近の動向


内容細目表

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