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書誌情報

書名

よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み ファブから検査まで製造装置を俯瞰する  図解入門  

著者名 佐藤 淳一/著
出版者 秀和システム
出版年月 2019.12


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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 図書情報館1310438708549.8/サ/2階図書室WORK-427一般図書貸出禁止在庫   ×

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2019
549.8 549.8
半導体

書誌詳細

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タイトルコード 1008001436954
書誌種別 図書
書名 よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み ファブから検査まで製造装置を俯瞰する  図解入門  
書名ヨミ ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ セイゾウ ソウチ ノ キホン ト シクミ 
著者名 佐藤 淳一/著
著者名ヨミ サトウ ジュンイチ
版表示 第3版
出版者 秀和システム
出版年月 2019.12
ページ数 261p
大きさ 21cm
分類記号 549.8
分類記号 549.8
ISBN 4-7980-6037-8
内容紹介 洗浄・乾燥装置、イオン注入装置、熱処理装置など、半導体製造装置の構造・構成から検査・測定・解析装置までを、豊富なイラストを交え、現場に近い視点から解説する。
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。ソニー(株)入社、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。著書に「よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み」など。
件名 半導体
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 製造装置の構想・構成から、検査・想定・解析装置まで。製造装置の現状と進歩が図解でよくわかる!
(他の紹介)目次 第1章 半導体製造装置を取り巻く現状
第2章 半導体製造装置をファブから理解する
第3章 洗浄・乾燥装置
第4章 イオン注入装置
第5章 熱処理装置
第6章 リソグラフィー装置
第7章 エッチング装置
第8章 成膜装置
第9章 平坦化(CMP)装置
第10章 検査・測定・解析装置
第11章 後工程装置
(他の紹介)著者紹介 佐藤 淳一
 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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