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書誌情報

書名

クラスターイオンビーム基礎と応用　次世代ナノ加工プロセス技術　　　　

著者名 山田 公／編著
出版者 日刊工業新聞社
出版年月 2006.10

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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 中央図書館0117281360549.1/ﾔ/１階図書室49B一般図書一般貸出在庫　  ○

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2006
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書誌詳細

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タイトルコード 1006600367835
書誌種別 図書
書名 クラスターイオンビーム基礎と応用　次世代ナノ加工プロセス技術　　　　
書名ヨミ クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ　
著者名 山田 公／編著
著者名ヨミ ヤマダ イサオ
出版者 日刊工業新聞社
出版年月 2006.10
ページ数 11,223p
大きさ 21cm
分類記号 549.1
分類記号 549.1
ISBN 4-526-05765-7
内容紹介 クラスターイオンビーム技術は、数百から数千の原子の塊(クラスター)からなるイオンを高速で、固体の表面に衝突させて行う表面加工技術。その基礎現象とプロセス技術の応用例をふんだんに盛り込んだ一冊。
著者紹介 京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授。
件名 イオンビーム
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。
(他の紹介)目次 １　イオンビーム技術の概要（イオンの発見
イオンビーム技術の誕生　ほか）
２　ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理
ガスクラスターイオンビーム装置　ほか）
３　クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象
ガスクラスターイオンの照射効果の特長　ほか）
４　ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用
磁性・誘電体デバイス応用　ほか）
５　産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置
デカボランイオン注入装置）
(他の紹介)著者紹介 山田 公
　京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)


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