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書誌情報
| 書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 図解入門
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| 著者名 |
佐藤 淳一/著
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| 出版者 |
秀和システム
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| 出版年月 |
2020.9 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
| No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
配架場所 |
所蔵棚番号 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
付録 |
貸出
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| 1 |
中央図書館 | 0180661464 | 549.8/サ/ | 1階図書室 | 49B | 一般図書 | 一般貸出 | 在庫 | |
○ |
| 2 |
厚別 | 8013123461 | 549/サ/ | 図書室 | 7 | 一般図書 | 一般貸出 | 貸出中 | |
× |
| 3 |
図書情報館 | 1310476732 | 549.8/サ/ | 2階図書室 | WORK-427 | 一般図書 | 貸出禁止 | 在庫 | |
× |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
| タイトルコード |
1008001509273 |
| 書誌種別 |
図書 |
| 書名 |
よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 図解入門 |
| 書名ヨミ |
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ |
| 著者名 |
佐藤 淳一/著
|
| 著者名ヨミ |
サトウ ジュンイチ |
| 版表示 |
第4版 |
| 出版者 |
秀和システム
|
| 出版年月 |
2020.9 |
| ページ数 |
255p |
| 大きさ |
21cm |
| 分類記号 |
549.8
|
| 分類記号 |
549.8
|
| ISBN |
4-7980-6245-7 |
| 内容紹介 |
ウェーハから半導体ファブ、前工程、後工程まで、半導体のプロセスの全てを俯瞰できるように、わかりやすいイメージの図や表を交えて解説。歴史的経緯にもふれる。新章「CMOSのプロセスフロー」を加えた第4版。 |
| 著者紹介 |
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。著書に「よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み」など。 |
| 件名 |
半導体 |
| 言語区分 |
日本語 |
| (他の紹介)内容紹介 |
幸福の小さなきらめきを静かにつむぐ。『詩集見えない涙』につづく待望の第二詩集。 |
| (他の紹介)目次 |
余白 多忙な人 幸福論 鞭を打つ 遍歴者 聖堂 裁く眼 アスファルト 開かない扉 告白〔ほか〕 |
| (他の紹介)著者紹介 |
若松 英輔 批評家・随筆家。1968年生まれ、慶應義塾大学文学部仏文科卒業。2007年「越知保夫とその時代求道の文学」にて三田文学新人賞、2016年『叡知の詩学小林秀雄と井筒俊彦』にて西脇順三郎学術賞を受賞(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) |
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