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書名

ドライプロセス表面処理大全　　　技術大全シリーズ　　

著者名 関東学院大学材料・表面工学研究所／編
出版者 日刊工業新聞社
出版年月 2019.3

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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 図書情報館1310367089566.7/ﾄﾞ/２階図書室WORK-430一般図書貸出禁止在庫　  ×

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書誌詳細

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タイトルコード 1008001365176
書誌種別 図書
書名 ドライプロセス表面処理大全　　　技術大全シリーズ　　
書名ヨミ ドライ プロセス ヒョウメン ショリ タイゼン　
著者名 関東学院大学材料・表面工学研究所／編
著者名ヨミ カントウ ガクイン ダイガク ザイリョウ ヒョウメン コウガク ケンキュウジョ
出版者 日刊工業新聞社
出版年月 2019.3
ページ数 285p
大きさ 21cm
分類記号 566.7
分類記号 566.7
ISBN 4-526-07968-9
内容紹介 真空や大気圧下で金属、無機化合物、有機化合物などの薄膜を形成する表面処理方法であるドライプロセス。真空技術や基板前処理などの基礎、PVD、CVD、エッチングなどの原理を解説し、応用例や最新技術等を紹介する。
件名 金属表面処理、薄膜
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 ドライプロセス表面処理技術は、めっきを中心とするウェットプロセスとともに、薄膜材料形成に広く使われている。エレクトロニクス分野、光学分野、機械分野だけでなく、医療や食品分野までもその活用が期待されている。
(他の紹介)目次 第１章　ドライプロセスの基礎
第２章　ドライプロセスの特徴と種類
第３章　物理蒸着（ＰＶＤ）法
第４章　化学蒸着（ＣＶＤ）法
第５章　ドライプロセス表面加工法
第６章　ドライプロセス表面改質法
第７章　ドライプロセスの応用
第８章　機能性薄膜
第９章　ドライプロセスの最新技術・研究


内容細目表

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