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書誌情報

書名

表面と薄膜分析技術の基礎     

著者名 L.C.フェルドマン/著   J.W.メイヤー/著   栗山 一男/訳   山本 康博/訳
出版者 海文堂出版
出版年月 1989.6


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No. 所蔵館 資料番号 請求記号 配架場所 所蔵棚番号 資料種別 帯出区分 状態 付録 貸出
1 中央図書館0113249486501.2/フ/書庫3一般図書一般貸出在庫  

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1989
表面(工学) 薄膜

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タイトルコード 1001000232227
書誌種別 図書
書名 表面と薄膜分析技術の基礎     
書名ヨミ ヒョウメン ト ハクマク ブンセキ ギジュツ ノ キソ 
著者名 L.C.フェルドマン/著
著者名ヨミ L C フェルドマン
著者名 J.W.メイヤー/著
著者名ヨミ J W メイヤー
著者名 栗山 一男/訳
著者名ヨミ クリヤマ カズオ
出版者 海文堂出版
出版年月 1989.6
ページ数 353p
大きさ 22cm
分類記号 501.2
分類記号 501.2
ISBN 4-303-71200-0
件名 表面(工学)、薄膜
言語区分 日本語

(他の紹介)内容紹介 本書では、イオン、電子、光子等の固体内の振舞いを示すとともに、その結果として生ずる現象を材料分析に応用する際の理論的根拠、分析を行うための装置構成、さらには実際の分析を行う際に遭遇するであろう問題点を、豊富な例題をまじえて解説している。
(他の紹介)目次 1章 序章―概念、単位、そしてボーア原子
2章 原子衝突と後方散乱法
3章 軽イオンのエネルギー損失と深さプロファイル
4章 スパッタによる深さプロファイル―2次イオン質量分析法
5章 チャネリング
6章 電子‐電子相互作用と分子分光法の深さ感度
7章 表面構造解析
8章 固体中の光子吸収とEXAFS
9章 X線光電子分光法(XPS)
10章 放射遷移と電子マイクロプローブ
11章 非放射遷移とオージェ電子分光法
12章 核技術―放射化分析と即発放射線分析


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