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資料情報
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No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
配架場所 |
所蔵棚番号 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
付録 |
貸出
|
1 |
中央図書館 | 0116067984 | R534.9/シ/ | 書庫6 | | 参考資料 | 貸出禁止 | 在庫 | |
× |
関連資料
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1001001360778 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
真空ハンドブック |
書名ヨミ |
シンクウ ハンドブック |
著者名 |
アルバック/編
|
著者名ヨミ |
アルバック |
版表示 |
新版 |
出版者 |
オーム社
|
出版年月 |
2002.7 |
ページ数 |
331p |
大きさ |
27cm |
分類記号 |
534.93
|
分類記号 |
534.93
|
ISBN |
4-274-08727-1 |
内容紹介 |
半導体製造、成膜、分析等に係る真空装置の構築・設計の現場で必要となる分野を中心に編集する。超微粒子、カーボンナノチューブの節を新しく設け、日本工業規格の改訂等に対応した92年刊の新版。 |
件名 |
真空技術-便覧 |
言語区分 |
日本語 |
(他の紹介)内容紹介 |
本書は、半導体製造、成膜、分析等に係る真空装置の構築・設計の現場で必要となる分野を中心として編集したものである。 |
(他の紹介)目次 |
第1章 真空の基礎 第2章 真空用部品 第3章 真空用構成材料 第4章 熱 第5章 低温 第6章 プラズマ・イオンビーム 第7章 表面分析 第8章 薄膜・表面加工 第9章 応用 |
内容細目表
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