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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求記号 |
配架場所 |
所蔵棚番号 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
付録 |
貸出
|
1 |
中央図書館 | 0112931290 | 431.8/ワ/ | 書庫3 | | 一般図書 | 一般貸出 | 在庫 | |
○ |
関連資料
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1001000194714 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
スパッタ技術 |
書名ヨミ |
スパッタ ギジュツ |
著者名 |
和佐 清孝/著
|
著者名ヨミ |
ワサ キヨタカ |
著者名 |
早川 茂/著 |
著者名ヨミ |
ハヤカワ シゲル |
出版者 |
共立出版
|
出版年月 |
1988.6 |
ページ数 |
227p |
大きさ |
22cm |
分類記号 |
431.86
|
分類記号 |
431.86
|
ISBN |
4-320-08477-2 |
件名 |
薄膜 |
言語区分 |
日本語 |
(他の紹介)内容紹介 |
本書は、スパッタ技術の世界的権威である著者らの基礎から実用に至る研究実績を基にして、実際に役立つ最先端のスパッタ技術を収録したもので、超電導を始めとした21世紀への材料開発に不可欠、必携の書である。セラミックス高温超電導体の薄膜化など最新の具体的事例を数多くとりあげスパッタの基礎から応用に至る技術を詳細かつ平易に解説。 |
(他の紹介)目次 |
1章 序言(スパッタ現象 スパッタとエレクトロニクス スパッタと新素材) 2章 スパッタの基礎(スパッタ率とその変化要素 スパッタ粒子 スパッタ機構) 3章 スパッタ装置と基本特性(放電特性 スパッタ装置 スパッタ装置の取扱い) 4章 スパッタによる薄膜化(化合物薄膜とその形成法 酸化物薄膜の形成 窒化物薄膜の形成 炭化物、珪化物薄膜の形成 セレン化合物薄膜の形成 アモルファス薄膜の形成 有機物薄膜の形成 超格子構造の形成) 5章 スパッタによる微細加工(イオンビームスパッタエッチング ダイオードスパッタエッチング プラズマエッチング) |
内容細目表
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